爱德华Edwards真空泵iXH100半导体干泵AC010A121000

爱德华Edwards真空泵iXH100半导体干泵AC010A121000

Edwards iXH 100 是专为环保而设计的全新干泵系列 苛刻的化学过程的制造和加工。使用非常低的能量，高效的根机制具有 经过开发，可大幅降低输入功率至 1.3 kW，比上一代干式低 60% 泵，减少对环境的影响并降低成本 所有权。 气体阻隔技术和热设计改进 耐腐蚀性是 iH 系列的 4 倍 产品。先进的粉末处理功能意味着 iXH 将提供最大的可靠性和更长的泵寿命 多层蚀刻工艺，降低功耗 用于 CVD 工艺，尤其是使用刺激性化学品。

Edwards iXH 100 系列泵结构紧凑，重量轻，结合 极低的噪音和振动，使 iXH Edwards 系列中用途最广泛的化学干泵。iXH 将 改变您对干式真空泵技术的期望， 以最小的速度提供真正的好处并延长正常运行时间 环境影响。iXH 泵设计用于大多数半导体 处理，同时显着降低输入功率。该型号没有增压鼓风机泵以增加性能。有关完整的说明手册，请参阅下载。

接口图

特点和优点：

• 主要用于苛刻的化学应用

• 峰值抽速 100 m3/h-1 （59 CFM）

• 极限压力 1.5 x 10-2 Torr

• 无需预防性维护

• 仅包含主泵

• 3/8英寸快速连接注水

• 水和电源连接对接半

• SS水冷系统

• 多模 44 slm 气体模块

应用：

• 负载锁定

• 转移

• 气象学

• 光刻

• 物理气相沉积PVD工艺

• 物理气相沉积 PVD 预清洗

• 快速热退火RTA

• 剥离/灰化

• 蚀刻

• 植入物来源

• 高密度等离子体化学气相沉积HDP CVD

• 快速热处理 RTP

• 低于大气压的化学气相沉积 SACVD

• 钨化学气相沉积WCVD

• 改性化学气相沉积MCVD

• 等离子体增强化学气相沉积PECVD

• 低压化学气相沉积LPCVD

性能参数

抽速曲线